사업소개

부품사업

CVD SiC는 화학기상증착 (CVD, Chemical Vapor Deposition) 공법을 사용하여 SiC를 증착시키는 기술입니다.
당사는 지난 수년 간 축적시킨 CVD SiC 증착 기술을 활용하여 박막층착에서부터 수mm 이상의 두꺼운 Bulk 형태로
증착시킬 수 있는 기술을 개발하여 안정적인 생산 공정을 확보했습니다.

CVD SiC Coated Components

CVD-SiC 코팅 부품은 첨단 CVD 공법으로 생산되어 원소재의 out-gassing과 particle 발생을 효과적으로 억제합니다. 이로 인해 고온 및 진공 환경에서도 안정적인 성능을 유지하며, 반도체 및 첨단 산업 공정에서 필수적인 높은 청정도와 내구성을 제공합니다. 탁월한 내식성과 내열성으로 장비의 수명을 연장하고, 공정의 신뢰성을 극대화합니다

제품 특성

고순도

우수한 내화학성

산화 환경에서 사용 가능

고온에서의 안정성

원소재의 가스 방출 억제

제품 종류

  • 01
    Susceptor
    주로 CVD 및 Epitaxy 공정에서 사용됩니다. 웨이퍼를 지지하고 회전시키며, 공정 과정에서 발생하는 가스가 균일하게 이동하도록 유도하는 역할을 합니다.

Contact

  • Contact Person
    이창민 팀장
  • Tel
    070-7201-8963
  • Email
    changmin.lee@knj.kr